Адзін з найбуйных у міры кантрактных вытворцаў мікрасхем, кампанія Taiwan Semiconductor Manufacturing Co (TSMC), плануе пераход на 28-нанаметровую тэхналогію выраба чыпаў.
Як паведамляе Reuters, TSMC мае намер арганізаваць выпуск прадукцыі па методыцы з нормамі 28 нанаметраў у 2010 году. Чакаецца, што пераход на новую тэхналогію дазволіць падвысіць хуткадзейнасць канчатковых вырабаў на велічыню да 50 адсоткаў або знізіць іх энергаспажыванне на 30-50 адсоткаў у параўнанні з мікрасхемамі, выкананымі па 40-нанаметровай методыцы. Акрамя таго, дзякуючы ўкараненню больш "тонкага" тэхпрацэсу стане магчымым павелічэнне колькасці чыпаў, атрыманых з адной крамянёвай пласціны.
Характэрна, што не так даўно стала вядома, што пераход на 28-нанаметровую тэхналогію выраба мікрасхем плануе і сінгапурская кампанія Chartered Semiconductor Manufacturing. На сённяшні дзень Chartered асвоіла тэхпрацэс з нормамі 45 нанаметраў, а да канца года збіраецца наладзіць выпуск прадукцыі па прамежкавай 40-нанаметровай тэхналогіі (методыка 40G). У 2009 году Chartered можа перайсці на тэхналогіі з нормамі 32 і 28 нанаметраў.
Варта дадаць, што вытворчасць мікрасхем па 32-нанаметровай тэхналогіі ў наступным годзе маюць намер пачаць карпарацыі Intel і IBM. Дарэчы, Intel ужо дэманстравала ўзоры чыпаў, выкананых па 32-нанаметровай методыцы.
Буйныя вытворцы мікрасхем рыхтуюцца да пераходу на 28-нанаметровую тэхналогію
3 кастрычніка 2008
Каментароў (0)